O Departamento de Física da Universidade Federal Fluminense (DF/UFF) está ampliando o seu quadro permanente de professores pesquisadores na área de Física Experimental. Com essa perspectiva, acaba de abrir um concurso público para o preenchimento de uma vaga nas seguintes subáreas experimentais: *Óptica e Informação Quântica, Microscopia de Alta Resolução e Cristalografia.*
O perfil desejado é o de profissionais com independência científica e potencial de liderar pesquisas de boa qualidade nessas áreas. É também muito importante que o candidato mostre capacidade para contribuir com as atividades de ensino de graduação e de pós-graduação no DF/UFF.
O candidato aprovado irá dispor de uma infraestrutura que inclui equipamentos de alto desempenho nos laboratórios correspondentes, alguns dos quais estão listados a seguir.
– Laboratório de Óptica e Informação Quântica (LOIQ) – O LOIQ conta com os seguintes equipamentos: Laser Diabolo Innolight (saídas 532nm e 1064nm); Mesas óticas com sistemas pneumáticos de amortecimento de ruídos mecânicos; Moduladores Espaciais de Luz Polarímetro; Analisador de Feixes. O LOIQ dispõe, também, de laser HeNe estabilizado em frequência e intensidade, lasers HeNe não polarizados, contadores de fótons, osciloscópios, analisadores de espectro, detectores de intensidade, elementos óticos e ópto-mecânicos.
– Laboratório de Difratometria de Raios X (LDRX) – O LDRX conta com os seguintes equipamentos: Difratômetro de raios X para policristais Bruker D8 Advanced, com detector LynXeye, configuração para experimentos Bragg-Brentano, filmes finos (ângulo rasante) e porta amostras de placa e capilar; Difratômetro de raios X para monocristais Bruker D8 Venture, com sistema para medidas em baixa temperatura (até 100K), sistema dual de radiação (duas fontes de radiação – MoKa e CuKa) e detector CMOS Photon 100; Difratômetro de raios X para monocristais Kappa CCD, equipado com tubo com MoKa e sistema para medidas em baixa temperatura. O LDRX dispõe, também, de uma sala de montagem de amostras equipada com microscópio binocular, moinhos para homogeneização de poli-cristais e capela de exaustão. Maiores informações sobre o LDRX podem ser encontradas na página www.ldrx.uff.br
– Laboratório de Microscopia de Alta Resolução (LMAR) – O LMAR conta com os seguintes equipamentos: Microscópio Eletrônico de Transmissão de alta resolução JEOL 2100 F, com fonte de elétrons a emissão de campo, equipado com EDS, STEM e EELS; Microscópio Eletrônico de Varredura de alta resolução JEOL 1701, com fonte de elétrons a emissão de campo, EDS e STEM. Este laboratório em particular requer um profissional dinâmico, com experiência e potencial para liderar a implementação de pesquisas nessa área.
Além desses três Laboratórios, que constituem o foco específico do presente concurso, destacamos os seguintes equipamentos disponíveis em outros Laboratórios do IF/UFF que desenvolvem pesquisas em áreas correlatas:
Na área de caracterização de materiais estão disponíveis também: Espectrômetro de Foto Elétrons de Raios-X (XPS) Thermo VG Escalab 250-XI, capaz de realizar análises de XPS e UPS, incluindo análise resolvida em ângulo. Inclui câmara para pré-tratamento; Espectrômetro de Raman Witec Alpha 300, com lasers de 532 nm e 633 nm de comprimento de onda, acessório para análises a alta temperatura, e microscópio de força atômica acoplado; Sistema de Medidas de Propriedades Física – PPMS (4-300K e 9T) com módulos de calor específico, VSM, susceptibilidade magnética AC/DC, resistividade elétrica AC/DC e refrigerador diluição; Criogenia – mini-liquefator de He; Espectroscopia de Infravermelho (FTIR); Espectroscopia Mössbauer – com criostato que permite medidas até 4K – (Geometria de Transmissão e CEMS); Análise térmica (DSC-TGA) Tribômetro STR.
Na área de síntese de materiais: Equipamento para deposição por laser pulsado (PLD) a vácuo, equipado com laser Nd-YAG com comprimentos de onda de 1064 nm, 532 nm e 355 nm.; Equipamento para PLD-MBE equipado com laser de exímero, aquecimento do substrato, e análise camada por camada por RHEED; Duas câmaras para deposição por Plasma (PECVD) instrumentadas, uma delas com aquecimento do substrato, além de outros equipamentos menores como fornos com atmosfera controlada para tratamento térmico, forno a arco e pequenos equipamentos para síntese química, orgânica e inorgânica
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Assessoria de Comunicação
